武威石灰窯生產(chǎn)線
發(fā)布時間：2024-08-28 01:27:18
武威石灰窯生產(chǎn)線
節(jié)能環(huán)保型技術(shù)特點：（1）窯尾加裝了豎式預(yù)熱器，使窯尾的煙氣余熱直接傳導(dǎo)給了石灰石，煙氣溫度可降至280℃以下，有效地回收了尾氣排放所帶走的熱量，同時也為后續(xù)除塵減少了負(fù)荷。（2）回轉(zhuǎn)窯長徑比由傳統(tǒng)的20～25降低為14～15。長度的縮短不僅減少了由回轉(zhuǎn)窯表面散失到周圍的熱量，也減少了設(shè)備的占地面積。（3）窯頭出料冷卻采用豎式冷卻器替代原來的冷卻筒，避免了石灰的顯熱散失。從窯頭落下的熾熱石灰，通過與鼓入的二次風(fēng)換熱，石灰得以冷卻，空氣吸收熱量溫度升高后進(jìn)入回轉(zhuǎn)窯助燃。
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窯殼，它是回轉(zhuǎn)窯（旋窯）的主體，窯殼鋼板厚度在40mm左右的鋼板，胎環(huán)的附近，因為承重比較大，此處的窯殼鋼板要厚一些。窯殼的內(nèi)部砌有一層200mm左右的耐火磚。窯殼在運(yùn)轉(zhuǎn)的時候，由于高溫及承重的關(guān)系，窯殼會有橢園型的變形，這樣就會對窯磚產(chǎn)生壓力，影響窯磚的壽命。在窯尾大約有一米長的地方為錐形，使從預(yù)熱機(jī)進(jìn)料室來的料能較為順暢地進(jìn)入到窯內(nèi)。胎環(huán)、支持滾輪、軸承、胎環(huán)與支持滾輪都是用來支撐窯的重量用。胎環(huán)是套在窯殼上，它與窯殼間并沒有固定，窯殼與胎環(huán)之間是加有一塊鐵板隔開，使胎環(huán)與窯殼間保留一定間隙，不能太大也不能過小。如果間隙太小，窯殼的膨脹受到胎環(huán)的限制，窯磚容易破壞。如果間隙太大，窯殼與胎環(huán)間相對移動、磨擦更加利害，也會使窯殼的橢圓變形更加嚴(yán)重。通常要在二者間加潤滑油。我門可以通過窯殼與胎環(huán)間的相對運(yùn)動來憑估計窯殼的橢圓變形程度。
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并流煅燒是套筒窯整個煅燒工藝的關(guān)鍵，石灰最終在這個區(qū)域內(nèi)燒成。高溫?zé)煔饨?jīng)料層煅燒石灰，然后從下內(nèi)筒底部均布的循環(huán)氣體入口處進(jìn)入下內(nèi)筒：冷卻空氣從底部吸入窯內(nèi)，被高溫石灰預(yù)熱后與高溫?zé)煔庖黄饛南聝?nèi)筒入口處進(jìn)入下內(nèi)筒內(nèi)。兩股氣流混合后稱為循環(huán)氣體(其中含有過?？諝饪梢宰鳛槿紵慰諝?，溫度一般為800-900℃。循環(huán)氣體經(jīng)下內(nèi)筒入口→下內(nèi)筒頂部斗噴射器→下燃燒室料層→下內(nèi)筒入口，如此循環(huán)往復(fù)。CaO外殼在并流煅燒區(qū)．隨著物料向下流動，石灰石表面逐漸形成了CaO外殼，其吸熱性也變差，但恰好此時較貧化的燃料和空氣發(fā)生接觸燃燒。熱量供給較溫和，因此不會使CaO外殼過燒，又能使生芯繼續(xù)分解。
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止推滾輪只是起到阻擋的作用，滾輪本身并沒有動力。窯體的吃上吃下是靠滾輪的偏位，將托輪與窯的中心線有一定角度，讓托輪給窯體有向上的力，使窯殼上移。有時撒一些生料粉或?qū)⑼休啿粮蓛?，增大其磨擦系?shù)，也可使窯體上移。窯體吃下時，只要在托輪與輪帶之間撒上石墨粉，減小兩者間的磨擦力既可。當(dāng)回轉(zhuǎn)窯（旋窯）吃下觸及到Y(jié)1開關(guān)時，液壓系統(tǒng)開始吃上動作，液壓系統(tǒng)吃上1分鐘，停止4分鐘，然后重復(fù)吃上1分鐘停4分鐘的動作，直到窯胎環(huán)觸及到Y(jié)5位置。此時窯體開始吃下，液壓系統(tǒng)泄壓2分鐘，停4分鐘，然后重復(fù)動作。直到窯體觸及到Y(jié)1位置又進(jìn)行吃上。不斷重復(fù)以上的過程既可。在液壓系統(tǒng)停止動作時，內(nèi)部的壓力不變。
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為滿足現(xiàn)代化活性石灰預(yù)分解回轉(zhuǎn)窯生產(chǎn)線的工藝要求，保證工藝設(shè)備可靠運(yùn)行，穩(wěn)定工藝參數(shù)，保證產(chǎn)品質(zhì)量，節(jié)約能源，提高生產(chǎn)線的運(yùn)轉(zhuǎn)率，全線采用技術(shù)先進(jìn)全過程控制，在PLC控制的基礎(chǔ)上增加DCS控制，對主生產(chǎn)線集中監(jiān)視、操作和分散控制，控制回轉(zhuǎn)窯操作系統(tǒng)提高產(chǎn)品質(zhì)量降低消耗。提高電控設(shè)備的可靠性和可維護(hù)性，以實現(xiàn)控制、監(jiān)視、操作的現(xiàn)代化。產(chǎn)品質(zhì)量CaO≥93% , MgO≤4.5%, SiO2≤1.0%， P≤0.01%， S≤0.025%， 灼減≤3 ，活性度≥350ml~380ml,生燒≤1.5% ，過燒≤1.5% 。